膜厚测量仪FILMT…

膜厚测量仪FILMTHICK-C10复杂建模分析纳米级高精度膜厚解析算法精密光谱干涉测厚法千赫兹光谱采样速率产品简介景颐光电膜厚测量仪FILMTHICK-C10利用光干涉原理，机械结构集成的进口卤钨灯光源，使用寿命超过10000小时。FILMTHICK对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。可应用于半导体薄膜、液晶显示、光学... 查看更多+

膜厚测量仪 FILMTHICK-C10

复杂建模分析纳米级高精度

膜厚解析算法精密光谱干涉测厚法

千赫兹光谱采样速率

产品简介

景颐光电膜厚测量仪FILMTHICK-C10利用光干涉原理，机械结构集成的进口卤钨灯光源，使用寿命超过10000小时。FILMTHICK对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。可应用于半导体薄膜、液晶显示、光学镀膜、生物医学等薄膜层的厚度测量。OPTICAFILMTEST光学膜厚测量软件采用FFT傅里叶法、ji值法、拟合法多种高精度算法，包含了类型丰富的材料折射率数据库，开放式材料数据库，有效地协助用户进行测试分析，测量期间能实时显示干涉、FFT波谱和膜厚等趋势。

应用领域

半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、氧化物/氮化物工艺薄膜、介电材料、硅或其他半导体膜层
液晶显示：OLED、玻璃厚度、聚酰亚胺、LCD TFT、ITO与其他TCO
光学镀层：HC硬涂层、AR抗反射层、AG防眩光涂层、滤光片、眼镜
生物医学：Parylene派瑞林、聚合物、生物膜、医疗设备
薄膜：AR膜、HC膜、PET膜

行业案例

氟塑料薄膜：厚度162um
光刻胶：厚度72nm
派瑞林(parylene)：厚度2496nm
ITO膜氧化铟锡：厚度36nm
SiO2二氧化硅硅晶圆：厚度2108nm
钙钛矿：厚度16.7nm
量子点：厚度38.3nm
PI膜：厚度30628nm
聚氨酯：厚度26480nm
HC硬化层：厚度52360nm
微流控涂层：厚度3012nm
PDMS薄膜聚二甲基硅氧烷：厚度10.8nm

产品特性

采用高强度氘钨灯光源，光谱覆盖深紫外到近红外范围
基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析膜层厚度
配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合法分析法分析薄膜的物理参数信息
- 曲线拟合分析法（Curve fitting）分析薄膜
- FFT（快速傅里叶解析法）分析厚膜
- ji值分析法

产品参数

参数	C10-UV	C10-UVX	C10	C10-NIRX	C10-NIR
波长范围	190-1100nm	190-1700nm	380-1100nm	380-1700nm	950-1700nm
光源	氘灯+卤钨灯	氘灯+卤钨灯	卤钨灯	卤钨灯	卤钨灯
厚度范围	1nm-40um	1nm-250um	10nm-100um	10um-250um	100um-250um
精度	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
光斑大小	标准1.5mm（可选配至10um）	标准1.5mm（可选配至10um）	标准1.5mm（可选配至10um）	标准1.5mm（可选配至10um）	标准1.5mm（可选配至10um）
样品尺寸	标准300mm（可选配）	标准300mm（可选配）	标准300mm（可选配）	标准300mm（可选配）	标准300mm（可选配）
测试时间	优于0.1秒	优于0.1秒	优于0.1秒	优于0.1秒	优于0.1秒
光源寿命	10000小时	10000小时	10000小时	10000小时	10000小时

型号规格

型号	厚度范围*	波长范围
C10-UV	1nm-40um	190-1100nm
C10-UVX	1nm-250um	190-1700nm
C10	10nm-100um	380-1100nm
C10-NIRX	10um-250um	380-1700nm
C10-NIR	100um-250um	950-1700nm
*取决于薄膜种类

合作客户

华为、中国科学院上海技术物理研究所、北京大学、清华大学、JCET、宁德时代、比亚迪、中国航天